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您也可以在淘寶網首頁搜索“錦正茂科技”，就能看到我們的企業店鋪，聯系更加方便快速！ 磁光克爾效應測量系統 磁光克爾效應裝置是一種基于磁光效應原理設計的超高靈敏度磁強計，是研究磁性薄膜、磁性微結構的理想測量工具。旋轉磁光克爾效應（RotMOKE）是在磁光克爾效應測量基礎上的一種類似于轉矩測量各向異性的實驗方法，可以定量的得到樣品的磁各向異性的值。但由于電磁鐵磁場大小的限制，只適合于測量磁各向異性的易軸在膜面內而且矯頑場不太大的磁性薄膜材料。結合源表可以進行樣品的磁輸運性能測量。RotMOKE具有以下特點：測量精度高、測量時間短；非接觸式測量，是一種無損測量；測量范圍為一個點，可以測量同一樣品不同部位的磁化情況；可以產生平滑、穩定的受控磁場，并且磁場平滑過零。 您也可以在淘寶網首頁搜索“錦正茂科技”，就能看到我們的企業店鋪，聯系更加方便快速！ 技術參數： 1·光學平臺：    剛性隔震，不銹鋼貼面，1200*800*800mm，M6螺孔，25mm陣距，150mm臺板厚度，帶腳輪。臺面平整度0.1/1000mm，平臺載荷300Kg，固有頻率≤2.5Hz，阻尼比0.12~0.13R/S。 2·矢量電磁鐵： 錦正茂二維矢量電磁鐵，每維大磁場0.26T，極面直徑30mm，磁場間隙40mm，中心10mm正方體內均勻區1%。 3·電磁鐵電源： 錦正茂單相雙極性恒流，大10A，小分辨率0.1mA，穩定性50ppm/h，對應小分辨率0.1Gauss。 4·激光器： Newport    632.8nm，2mW，2%穩定度，噪音<1% rms（30Hz~10MHz），通過聚焦透鏡光斑小為10μm的圓。 5·起偏/檢偏器：格蘭-湯普森棱鏡，外徑25.4mm，通光孔徑10mm，消光比<5*10^-5，角度范圍14~16°，波長范圍350~2300nm。 6·聚焦透鏡：K9雙凸，設計波長633nm，外徑25.4mm，焦距150mm，焦距誤差±0.5%，面精度X方向λ/4，Y方向λ/2。 7·四分之一波片：Ø25.4mm，波長632.8nm，投射波前畸變λ/8，相位延遲精度λ/100。 8·光電傳感器：15mm²感應面積，0.21A/W響應度，暗電流1nA，對430~900nm波長光敏感，分流電阻200Mohm。 9·電流放大器：1pA/V大增益，1MHz帶寬，大輸入±5mA，大輸出±5V，增益精度為輸出的±0.05% 10·高精度電壓表：六位半，小分辨率0.1μV，90天準確度達到0.002%，四位半精度下快2000 readings/second 11·手動位移和電動旋轉樣品桿：   XYZ三維位移，XY行程25mm，Z行程13mm，轉動360度，樣品座為直徑11mm的圓，上有電接頭。 12·計算機：聯想商用，集成多串口卡。 您也可以在淘寶網首頁搜索“錦正茂科技”，就能看到我們的企業店鋪，聯系更加方便快速！ 您也可以在淘寶網首頁搜索“錦正茂科技”，就能看到我們的企業店鋪，聯系更加方便快速！ 錦正科技以現代高科技產業和傳統產業為核心業務，對內承接科研生產任務，對外以商務平臺方式實現軍民兩用技術成果轉換，形成了科學管理的現代化經營模式，專門從事物理、化學和材料等領域的科學儀器研發、銷售各類型超低溫測試設備（液氮 液氦）制冷機系統集成 ，定制 ，高低溫真空磁場發生系統，Helmholtz線圈（全套解決方案），電磁鐵（全系列支持定制），螺線管，電子槍（高穩定性雙極性磁鐵恒流電源1ppm），高低溫磁場真空探針臺，霍爾測試系統，電輸運測量解決方案，磁光克爾效應測量系統等產品種類齊全，性能可靠，至今已有近10余年的歷史，是國內（較早）生產探針臺，電輸運，電磁鐵的廠家之一。 您也可以在淘寶網首頁搜索“錦正茂科技”，就能看到我們的企業店鋪，聯系更加方便快速！  

產品詳細介紹深圳市利盛泰靜電科技有限公司0755-276705580755-2767064813510890109www.lst-esd.com產品簡介:防靜電臺墊（地墊）主要用導靜電材料、靜電耗散材料及合成橡膠等通過多種 工藝制作而成。臺墊使用時間持久，具有很好的防酸、防堿、防化學熔劑特性，并且耐磨，易清洗;鋪設防靜電臺墊使人體及臺面接觸的ESDS鑷子、工具、器具、儀表等達到均一的電位并釋放靜電，同時使靜電敏感器件（SSD)不受摩擦起電等靜電放電現象的干擾，從而達到靜電防護的效果。產品一般為二層結構，表面層為靜電耗散層，底層為導電層。表面層為約0.3-0.5mm厚的靜電耗散層，底層為約1.5-1.7mm厚的導電層。● 面層電阻率：107-109Ω● 底層電阻率：103-105Ω● 磨耗率：<0.02g/cm2● 靜電耗散時間：<0.1s 

本發明提供了一種轉動解耦的兩自由度調平機構，包括定平臺、動平臺和連接在兩平臺之間的三個分支；第一分支僅有一個十字萬向節與定、動平臺相連接；第二分支中轉動導軌與滑塊之間的移動副為驅動副，滑塊直線運動帶動曲柄連桿轉動，進而驅動動平臺繞十字萬向節與動平臺的轉動副的軸線旋轉；第三分支中轉動導軌與滑塊之間的移動副為驅動副，滑塊直線運動帶動曲柄連桿旋轉，進而驅動動平臺繞十字萬向節與定平臺之間轉動副軸線的旋轉。本發明結構簡單，動平臺的兩個轉動運動完全解耦，運動性能良好，控制容易，工作空間較大，加工裝配性好，具有良好的實用性。

本發明公開了一種基于圖論的高光譜圖像顯著度計算方法，包括以下步驟：1）將輸入的高光譜圖像以圖表示；2）對圖進行權值計算，構建權重矩陣,權重矩陣中的元素值反映了中任意一個頂點和其他所有頂點的聯系；3）像元的全局顯著性計算，像元的全局顯著性等于它與圖像中所有其它像元間權值的總和：4）像元的局部顯著性計算，像元的局部顯著性用其鄰域背景像素的方差來表示：5）像元的最終顯著度計算，將對應像元的全局顯著性與局部顯著性相乘，得到各像元的最終顯著度。本發明在計算高光譜圖像顯著度時，充分考慮了感興趣目標的光譜特性和幾何尺寸特性，因此，能夠有效抑制背景的干擾，提高感興趣區域的提取效果。