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AIChE再度報道華東理工大學原子層沉積
ALD
多尺度模擬研究進展
近日,我校化工學院功能膜與電子化學品團隊青年教師莊黎偉博士,與美國約翰霍普金斯大學、北卡羅來納州立大學等單位合作,開發了一套原子層沉積(ALD)技術在多孔材料納米孔道內進行薄膜沉積的數值模型,可用于預測2-5納米孔道內前驅體擴散、吸附、脫附、沉積反應以及孔道收縮直至堵塞的動態過程。
華東理工大學
2022-09-28
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