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基于有機(jī)-無機(jī)納米復(fù)合材料制備了一種可用于內(nèi)墻批 蕩的高保溫內(nèi)墻涂料，經(jīng)上海市建筑科學(xué)研究院有限公司，上海建科檢驗(yàn)有限公 司鑒定，該材料的導(dǎo)熱系數(shù)為 0.038 W/mK (空氣的導(dǎo)熱系數(shù)為 0.031 W/mK)， 相當(dāng)于把建筑物至于一個(gè)空氣隔層的保溫瓶中，實(shí)現(xiàn)保溫/保冷，起到節(jié)能減排 的功效。

項(xiàng)目簡介 地面上運(yùn)行的水泵工作時(shí)要求有一定的安裝高度，即吸程，若泵至水面的距離高于 吸程，水泵就不能正常工作。目前，由于地表水位的日益下降，吸程不斷增加，很多柴 油機(jī)噴灌泵不能正常運(yùn)行。針對(duì)這種應(yīng)用需求，開發(fā)出安裝高度達(dá) 15 米的射流—離心泵 裝置，裝置流量達(dá)到 20m3 /h 以上，能滿足無電地區(qū)噴灌、滴灌的需求。 適用范圍、市場前景 適用范圍：農(nóng)業(yè)節(jié)水灌溉等領(lǐng)域。 市場前景：結(jié)構(gòu)簡單、價(jià)廉物美、性能優(yōu)良等特點(diǎn)，市場前景看好。

高頓財(cái)稅學(xué)院服務(wù)體系 匯聚財(cái)務(wù)領(lǐng)域核心資源，滿足企業(yè)多層次、多角度的培訓(xùn)需求 為財(cái)務(wù)人學(xué)習(xí)護(hù)航

產(chǎn)品詳細(xì)介紹 KY-MG系列電子摸高器 KY-MG系列電子摸高器是我公司的專利產(chǎn)品，該儀器時(shí)一種新型的體能測試儀器。采用一體化結(jié)構(gòu)，測試者很容易將摸高器固定在室內(nèi)或室外的某一合適位置，基準(zhǔn)高度值任意設(shè)置。 測試人員起跳后，只要將手摸到觸摸板，在顯示窗口便立即準(zhǔn)確地顯示和報(bào)出所觸摸的最高高度。 該產(chǎn)品適用于籃球、排球、跳高、跳遠(yuǎn)等項(xiàng)目運(yùn)動(dòng)員選材、訓(xùn)練效果檢測、學(xué)生體能測試及國民素質(zhì)測試等。   技術(shù)特點(diǎn) 任意設(shè)置基準(zhǔn)高度 語音播報(bào)彈跳高度值 液晶顯示彈跳高度值  語音播報(bào)凈高值 液晶顯示凈高值 測試數(shù)據(jù)電腦分析處理功能（選配） 可通過支架或吊掛式安裝（選配）   技術(shù)指標(biāo) 測試區(qū)高度：60厘米；90厘米；120厘米 測試精度：1厘米 供電電源：外接交流電源適配器（9V）和電池供電 工作溫度：-10℃-50℃ 按鍵5分鐘后自動(dòng)關(guān)機(jī)

作為鋰離子電池在儲(chǔ)能領(lǐng)域中的替代品，低成本、高性能的鈉離子電池是大規(guī)模儲(chǔ)能的關(guān)鍵戰(zhàn)略，正極是其中最關(guān)鍵組件之一，層狀氧化物正極由于其組分豐富、結(jié)構(gòu)可控和理論容量高而被深入研究，晶格氧活性的激活有望實(shí)現(xiàn)超出層狀正極理論極限的超高容量。

產(chǎn)品詳細(xì)介紹  JHT—DDC單人單面超凈化工作臺(tái)（垂直）   這是一種供單人操作的通用型局部凈化設(shè)備，氣流形式為垂直層流，它可造就局部高清潔度空氣環(huán)境，是科研制藥、醫(yī)療衛(wèi)生、電子光學(xué)儀器等行業(yè)最為理想的專用設(shè)備。 特點(diǎn)： 1、操作區(qū)為全不銹鋼 2、外型美觀結(jié)構(gòu)合理 3、采用自定們上下推拉門系統(tǒng) 4、風(fēng)量可調(diào)，雙側(cè)電源插座   技術(shù)指標(biāo)：   型號(hào)   JHT--DDC 外形尺寸 900×800×1630 工作臺(tái)尺寸 870×650×570 潔凈等級(jí) 100級(jí)@≥0.5ｕm(美聯(lián)邦209E) 平均風(fēng)速 0.3—0.5m/s(可調(diào)) 噪音 ≤65dB(A) 振動(dòng) ≤3ｕm 照明 ≥300LX 電源 220V 50HZ 消耗功率 ≤360W 紫外線 30W×1 照明 30W×1 備注 不銹鋼臺(tái)面，雙側(cè)電源，上下推拉門  

MS-450高真空多靶磁控濺射鍍膜機(jī) 真空腔室：直徑450?H400mm，1Cr18Ni9Ti優(yōu)質(zhì)不銹鋼材質(zhì)，氬弧焊接，前開門結(jié)構(gòu)； 真空系統(tǒng)：機(jī)械泵+分子泵（進(jìn)口和國產(chǎn)可選）； 極限真空：優(yōu)于5?10-5Pa（經(jīng)烘烤除氣后）； 真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min； 升降基片臺(tái)：2～6英寸基片臺(tái)，靶基距60～120mm連續(xù)在線自動(dòng)可調(diào)，旋轉(zhuǎn)0～20r/min可調(diào)，可加熱至500℃（可選水冷功能），可選配偏壓清洗功能； 磁控靶：直徑3英寸2～4只（可升級(jí)成直徑4英寸靶2～3只），兼容直流和射頻，可以濺射磁性材料的靶材； 濺射電源：直流脈沖濺射電源、全自動(dòng)匹配的射頻濺射電源可任選； 質(zhì)量流量計(jì)：2～3路工藝氣體，可根據(jù)工藝要求增加； 膜厚監(jiān)控儀：可選配國產(chǎn)或進(jìn)口單水冷探頭膜厚儀； 控制方式：PLC+觸摸屏控制系統(tǒng)，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實(shí)現(xiàn)一鍵抽停真空。