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針對兩個及兩個以上調水水庫調水量與調水時機不確定的問題，本發明建立基于供水系統全局缺水 風險最小化的水庫群聯合模擬優化調度模型，采用并行多種群混合進化的粒子群算法 PMSE?PSO 優化 確定滿足各水庫供水要求的庫群調水規則和供水規則，并優化確定多調水水庫的最大調水規模，最后基 于優化規則及調水規模進行水庫調度計算，進而求出各計算時段調水過程以及各水庫區用水戶供水量。 本發明針

本實用新型公開了一種分體式空調冷凝水熱回收裝置，包括有冷凝器、預冷箱體、行程轉換器，預冷箱體外部連接一小型水泵，預冷箱體上部連接有冷凝水進水管，預冷箱體內部有換熱盤管，行程轉換器連接換熱盤管與冷凝器，冷凝器上方設有直管，直管上安裝有噴頭，小型水泵通過冷凝水出水管與直管相連。本實用新型通過二次冷凝及換熱，對冷凝水進行熱回收，降低冷凝器的工作溫度，提高冷凝器工作效率，節約能源。

本發明公開了一種基于溫度響應性水凝膠的肌肉驅動模塊，包括基于溫度響應性水凝膠的驅動層，還包括包覆在驅動層外的柔性保護層，以及設于在驅動層和柔性保護層之間的電熱層。本發明的肌肉驅動模塊采用柔性材料作為肌肉輔助裝置，可避免對人體的機械傷害，通過電熱驅動的方式來驅動材料變形，且電熱驅動易于控制，進而能夠得到不同的驅動形式。

儀器概述 　本儀器是根據石油和石油產品行業標準SH/T0109-2004《潤滑脂抗水淋性能測定法》的要求設計制造的，用于規定的實驗條件下，在38℃和79℃試驗時來評價潤滑脂抵抗被水沖出軸承能力的新型產品。崇尚國際流行的人性化設計理念，采用數字顯示器，簡單明了。浴溫控制精度高，抗干擾能力強，穩定可靠。 技術參數 1、工作電源：AC 220V±10%;50Hz 2、消耗功 率：600W 3、控溫方式：數字顯示溫控儀 4、水槽控溫范圍：室溫～100℃，可調 5、水槽控溫精度：±2℃ 6、溫度傳感器：Pt100(鉑電阻) 7、軸承套轉速：600±30r/min 8、噴射口水流速：5±0.5ml/s 9、水槽容量：≥750ml 10、環境溫度：20～30℃ 11、環境濕度：≤85% 性能特點 1、本儀器采用電加熱棒加熱方式，加熱速度快。 2、本機按標準來選購球軸承，計時器可精確到0.1S。 3、采用進口溫控儀器，確保試驗所需精度且穩定可靠。 4、水浴溫度通過PT100傳感器(電阻測溫包)輸入到溫控器，本傳感器反映靈敏，工作可靠。 5、本儀器壓縮機體積小、質量輕、運行穩定、無振動，很適合化驗室之用。 網址鏈接 http://www.csscyq.com/proshow.asp?id=748  

產品詳細介紹HZ-6水熱反應釜-均相攪拌反應器   1.用途   HZ-6均相攪拌反應器可用于相同組分的介質在不同條件下的反應情況進行測試或用于不同組分的介質在相同條件下的反應情況進行測試。本產品采用電熱鼓風干燥箱作加熱恒溫裝置，通過電機減速機帶動箱體內的攪拌軸及安裝在攪拌軸上的微型反應器轉動 , 達到攪拌反應的目的。    2.特點   HZ-6均相攪拌反應器一般由箱體、旋轉系統、加熱系統、控制系統四部分組成。箱體大都由不銹鋼制作而成，旋轉系統由電機和旋轉支架組成。控制系統主要控制箱體內的溫度和轉速。均相反應器多用于多個水熱合成反應釜進行相同組分的介質在不同環境下反應情況的測試或用于不同組分的介質在相同條件下的反應情況實驗。由于支架的旋轉使得水熱反應釜中的介質得到充分的攪拌，因而反應速度快，反應充分徹底，比單純的恒溫效果更好。箱體內攪拌桿上設有固定位置（根據反應釜的大小設定），可以同時固定微型反應釜6套、8套、10套、12套，另可根據用戶需求設計定做。   HZ-6均相攪拌反應器溫度恒溫數顯表顯示，用戶可根據反應實驗所需溫度自行設定。攪拌系統裝有變速裝置，轉速0-200轉可任意調整。操作簡單，使用方便。是各大專院校、醫藥化工，科研單位等實驗室做水熱反應實驗的理想設備。   3.指標　    1.  電壓：220V/50Hz     2.使用溫度： ≤300℃    3.攪拌轉速： 0-200轉/分  水熱合成反應釜-旋轉式攪拌溫控箱使用說明書一、  旋轉式攪拌溫控箱根據不同的用戶所需而定制，箱體內可承載200毫升反應釜6臺；100毫升反應釜10臺；50毫升反應釜12臺，  25  毫      升反應釜12臺旋轉攪拌。二、 可為用戶設計制造不同規格旋轉式攪拌溫控箱，不同規格溫控箱最高溫度可達300℃。三、 旋轉式攪拌溫控箱和溫控箱使用前請詳細閱讀說明書，和溫控指示調節儀使用說明書。四、 本產品說明書附加溫度指示調節儀使用說明書，總接線圖一頁。五、 使用說明：1、外形尺寸950*640*550，箱內尺寸400*400*300，凈重80㎏，本產品采用電壓220V，加熱功率2000W，馬大功率180W，                           并裝有散熱風機2 臺各15w。該機總功率2210W，加熱器加熱在200℃度時，需要時間約20分鐘。2、馬達傳動有效轉數20~135轉，如裝載200毫升反應釜6臺轉數一般選定80轉~100轉。3、將裝滿溶液的反應釜準備裝在箱內固定架時，首先關閉電源，在將反應釜裝在箱內每個反應釜的固定位置，將壓板螺絲擰緊即可。然后將箱門關閉，送電開啟電源開關，將開關開啟在自動位置，這時加熱器開始加熱，同時將馬達開啟旋轉。4、如果需要溫度在220度時，可將溫度控制儀按鈕調至215度，當溫度升到215度時，自動停止升溫線路斷開，這時溫度會升高至220度，延時5分鐘后溫度自然下降到213度這時會自動在升溫。5、當準備取出反應釜時，首先將電源斷開、壓板螺母松開即可取出反應釜，每取出一個反應釜時 請將壓板合上并將螺母擰緊牢固，防止誤操作時馬達轉動壓板碰到箱壁發生故障。6、每次用完后，首先關閉電源，將箱門處于開門狀態，待箱體內溫度與室外溫度相同時將箱門關閉。六、其它：1、溫控箱應置于干燥通風和無腐蝕場所。          2、由于制造中的質量問題造成的故障，在出廠12個月內免費維修或更換。此范圍外收取費用。          3、加熱管保質期為6個月。HZ-6水熱反應釜-均相攪拌反應器  

成果與項目的背景及主要用途： Cr-Si 中高阻膜電阻器具有精度高、噪聲低、溫度系數小、耐熱性和穩定性 好等優點，在精密電子設備和混合集成電路中大量采用。對于濺射制備電阻膜來 說，靶材是至關重要的，它制約著金屬膜電阻器的電阻率、精度、可靠性、電阻 溫度系數（Temperature Coefficient of Resistance, TCR）等性能。電阻溫度系數 (TCR)是金屬膜電阻器的一個重要性能技術指標之一，較大的 TCR 在溫度變化時 會造成電阻值漂移，從而影響電阻器的精度和穩定性。目前國內外生產的金屬膜 電阻器用高阻靶材，其性能不能滿足低 TCR（≤25ppm/℃）要求。 技術原理與工藝流程簡介： 靶材煉制工藝如下圖所示所制備的靶材(382 mm ×128 mm ×14 mm)在濺射成電阻器薄膜后, 電阻溫度 系數小(≤25 ×10-6 / ℃), 電阻值高(要求不刻槽數量級為千歐, 刻槽后數量級為 兆歐)且穩定(隨時間變化小), 因此, 在本靶材研究中, 將選擇 Cr 、Si 作為高阻 靶材的主體材料。由于 C r 、Si 熔點高, 原子移動性低, 因此由其所組成的薄膜 穩定性高。通過在金屬 C r 中引入半導體材料 Si 來提高電阻器合金膜的阻值。 C r 是很好的吸收氣體的金屬元素, 在電阻器薄膜濺射過程中, 可通過通入微量 的氧來提高薄膜的電阻率, 同時調節電阻溫度系數。 技術指標如下： 溫度沖擊實驗后 ΔR/R ≤±0 .5 %, 過載實驗后 ΔR/R ≤±0 .5 %, 壽命實驗后 ΔR/R ≤±1 .0 %,電阻溫度系數 TCR ≤±20 ×10-6 / ℃。 應用領域： 集成電路、電子元器件 合作方式及條件：具體面議 2 半導體微環激光器 3 基光電集成電路 4 無線網絡與應用：協作無線網絡 5 移動通信—LTE 技術

一種單分散氧化鎵粉體及其高密度陶瓷靶材的制備方法 發明專利/實用新型/：發明授權 簡介：本發明公開了一種單分散氧化鎵粉體及其高密度陶瓷靶材的制 備方法，其將純度為 99.99％以上的金屬鎵原料溶解于酸中，配制澄清 的鎵鹽溶液，加入沉淀劑產生沉淀物，將獲得的沉淀經洗滌、過濾、 干燥、煅燒制成單分散超細氧化鎵粉體；用合成的單分散氧化鎵粉體 作為原料，經模壓成型和冷等靜壓強化獲得氧化鎵生坯，將生坯放在 高溫爐

本發明公開了一種具有高粉末原料利用率的高能束增材制造方 法及設備。方法根據待成形金屬構件切片輪廓形狀確定成型缸的內部 結構，使各鋪粉層的金屬粉末盡量只處于待成形金屬構件切片輪廓形 狀對應的區域，以大幅度減少金屬粉末的用量，并提高高能束增材制 造的功效。設備包括一個或多個成型缸，該成型缸的內部結構與待成 形金屬構件切片輪廓形狀相匹配。本發明通過使用鑲塊以及與金屬構 件切片輪廓形狀相適應的異形基板，實現了針對不同金屬構件

本發明公開了一種梯度溫度場主動調控系統及其控制方法，系 統由溫度場監控系統、加熱系統和控制系統；溫度場監控系統用于測 量成形區域 XOY 平面及四周的溫度場信息，將獲得的溫度場信息進行 量化處理后反饋給控制系統，加熱系統根據控制系統指令對成型缸的 底部和四周進行溫度場的分區獨立實時調節，以實現在加工過程中整 個加工區域的溫度場恒定，保證已加工區域與未加工區域處于合理的 溫度梯度，避免熱應力導致構件翹曲、變形、開裂。本

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