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真空井點降水方法，可應用于地下水位較高的施工環境中，已成為土方工程、軟土 加固、地基與基礎工程施工中的一項重要技術措施。這種方法通過將基土水分疏干，促 使土體固結，提高地基強度，進而減少了基底土隆起、土坡土體側向位移與沉降，可消 除流砂、穩定邊坡。真空降水基本原理是在基坑開挖前，預先在基坑四周埋設一定數量 的濾水管（井），在基坑開挖前和開挖過程中，利用真空原理，不斷抽取地下水，使井 點周圍的地下水位下降，形成降水漏斗，從而使大面積原有地下水位降低，并且在工作 過程當中要保持每天 24 小時連續抽水，使地下水位降低并使降落曲線保持穩定。因此， 真空降水技術以其成本較低、設備簡單、容易進行施工操作等優點，得到了廣泛應用。 但是降水效率仍然是現實設計施工中急需解決的問題。對于透水較弱的地基來說，其降 水速率很慢，往往會影響到其加固效果和工期。根據上海地區過去進行的野外抽水試驗 總結資料，當降低水位深度大于 10m 且土層滲透系數小于 0.1m/d 時，常見降水方法均 不能達到要求。為此，本專利技術在傳統真空降水技術基礎上，向深層土體注入壓力氣 體，增強驅水壓力梯度，提高降水速率，擴展真空降水技術的適用范圍。 圖 1 示意了注氣在真空降水工程中的應用原理。從裝置上看，該降水新方法是在傳 統的真空降水方法的基礎上，增設一種用于向土體內部注入壓力氣體的裝置，形成一種 新型的注氣式真空降水方法。該處理方法僅僅在原有的真空降水系統基礎上增設了注氣 系統，所以其實施較為方便。其降水系統主要由兩部分組成：注氣系統和傳統的真空降 水系統。真空降水系統主要由真空泵 5、井點管 6、濾頭 7 組成，注氣系統主要由供氣 裝置 1、注氣管 2、注氣嘴 3 和貫入頭 4 組成。注氣嘴（白色段）與貫入頭（灰色段） 均為可拆卸的，注氣管、注氣嘴和貫入頭順次相接，貫入頭利于注氣裝置插入土體。注 氣嘴直徑比兩端的注氣管、貫入頭都小，中間細、兩頭粗，這可避免在注氣裝置貫入土 體過程中土體把注氣嘴的注氣孔堵塞。注氣管插入土體的深度由注氣嘴的位置要求決定。 由于氣體容易往上走，所以埋設中，注氣嘴位置應當低于井點管底部，其深度差異一般 取井點管間距的 0.5～2.0 倍。注氣系統的目的是提高真空降水效率，所以注氣管與井 點管在平面布置上盡可能錯開布置，注氣管安裝在井點管之間的中心位置。 圖 1(a)示意了注氣式真空降水系統的操作原理。當壓力氣體注入到土體內部時，氣 體會在土中向四周擴散，占據土中孔隙，將土中的水推向遠處。圖中深灰色部分表示土 層中含水較多的區域。由于井點管底部附近有著了較大的負壓，所以注入土體中的氣體 更容易往井點管方向擴散，同時迫使該區段的土中水快速向井點管移動，實現快速排水。 如果適當增加注氣壓力，那么土體還可能產生劈裂，出現放射狀的微細裂縫，這將加大 土體的透水性，加速土中水向井點管移動，從而提高了排水效率。同時，由于源源不斷 地向土體內部注入壓力氣體，所以勢必在注氣嘴附近形成較大區域的非飽和土區域，這 將十分有利于地基強度的增加。

該成果 2016 年獲教育部高等學校科學研究優秀成果獎二等獎。中國月-季節尺度降水預測是短期氣候預測中的一個難點和重點，我們提出了一種基于動力-統計相結合的客觀定量化的氣候預測新理論，充分吸收了動力學和統計學方法的優點，為提高月-季節降水預測準確率提供了一種新思路。

發現由人為活動產生的氣溶膠可顯著抑制華南四月中尺度對流系統的發生頻次，進而顯著減少降水，并闡釋了其物理機制。此發現解釋了近40年來華南四月降水減少的原因。 研究團隊首先分

EV-400高真空金屬有機蒸發鍍膜機 真空腔室：前開門真空腔體，方便取放基片、更換鎢舟、添加蒸發材料以及真空室的日常維護保養； 真空系統：國產分子泵作為主抽泵，真空極限優于5.0?10-5Pa（經烘烤除氣后）；另可選進口磁懸浮分子泵或是低溫泵作為主抽泵，真空極限優于3.0?10-6Pa（經烘烤除氣后）； 真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min； 蒸發源：4～6組歐美技術金屬或是有機束源爐蒸發源可選，多源共蒸獲得復合膜/分蒸獲得多層膜，功能強大，性能穩定； 蒸發電源：真空專業蒸發電源，恒流/恒功率控制。電流、功率可預先設置，可實現一鍵啟動和停止的自動控制功能； 基片臺：最大120mm基片/15～25mmITO/FTO玻璃25片，可定制一體化高精度刻蝕掩膜板；基片臺公轉，轉速0～20r/min連續可調； 基片臺功能：襯底可選擇加熱（室溫～300℃可調可控）或水冷，基片臺可選升降，源基距最大350mm； 濺射電源：直流脈沖濺射電源、全自動匹配的射頻濺射電源可任選； 膜厚監控儀：可選配國產或進口單水冷探頭膜厚儀； 可鍍材料：可沉積金屬（Au、Ag、Al、Ca、Cu、Mg、Fe、Cr、Ti、Ni等）、非金屬、化合物（MoO3、LiF等）及有機材料，可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜； 控制方式：PLC+觸摸屏控制系統，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現一鍵抽停真空。

MS-450高真空多靶磁控濺射鍍膜機 真空腔室：直徑450?H400mm，1Cr18Ni9Ti優質不銹鋼材質，氬弧焊接，前開門結構； 真空系統：機械泵+分子泵（進口和國產可選）； 極限真空：優于5?10-5Pa（經烘烤除氣后）； 真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min； 升降基片臺：2～6英寸基片臺，靶基距60～120mm連續在線自動可調，旋轉0～20r/min可調，可加熱至500℃（可選水冷功能），可選配偏壓清洗功能； 磁控靶：直徑3英寸2～4只（可升級成直徑4英寸靶2～3只），兼容直流和射頻，可以濺射磁性材料的靶材； 濺射電源：直流脈沖濺射電源、全自動匹配的射頻濺射電源可任選； 質量流量計：2～3路工藝氣體，可根據工藝要求增加； 膜厚監控儀：可選配國產或進口單水冷探頭膜厚儀； 控制方式：PLC+觸摸屏控制系統，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現一鍵抽停真空。

本發明公開了一種基于神經網絡的反演大氣可降水量的MODIS模型改進方法，包括以下步驟：S1：利用MODIS三通道比值法反演大氣可降水量PWV，記為PWVMODIS；S2：利用BP神經網絡建立測站處的緯度φ、測站處的高程h、年積日doy、PWVMODIS與測站GPS/MODIS反演的PWV殘差RES之間的非線性關系；S3：對BP神經網絡模型進行訓練；S4：將φ、h、doy以及PWVMODIS作為輸入參數代入BP神經網絡模型，并計算出GPS測站處PWV殘差RESBP；S5：利用RESBP補償PWVMODIS，獲得大氣可降水量PWV＝PWVMODIS+RESBP。本發明有效提高了建模精度。

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產品詳細介紹適用于在真空條件下對物品進行真空干燥、烘焙、熔臘、滅菌、固化、熱處理等，廣泛應用于工礦企業、科研院所、大專院校、醫藥衛生等單位。按工作溫度分普通型和高溫型，控溫方式有自動恒溫型和精密程序控溫型，工作室尺寸有多種規格，內膽有冷鋼板和不銹鋼兩款。主要技術參數1、最高溫度：250℃；2、電源及功率：AC220V/500KW；3、測溫：K分度號熱電偶+數顯智能控溫儀；4、控溫：數顯自動恒溫；控溫精度：±2℃；5、真空度：-0.1MPa；6、內空尺寸：∮350×400mm；7、冷鋼板內膽。

本發明公開了一種利用真空法制備益生菌鮮切水果的方法，包括以下步驟：1)、將活化后的益生菌在培養基上進行培養，直至所得的益生菌培養液中的活菌數≥108CFU/ml；2)、將洗凈去皮后的水果進行切割，得水果切塊；3)、先調節步驟1)所得的益生菌培養液的糖度與步驟2)中的水果糖度相等，然后加入抗氧化劑，得滲透液；4)、將步驟2)所得的水果切塊放入步驟3)所得的滲透液中，進行真空處理；5)、取出步驟4)真空處理后所得的水果切塊，瀝干后，用氮氣充氣包裝，并在2～8℃的低溫下保存。該方法不但能延長益生菌的壽命，且能使處理后的益生果鮮切水果可保持6-10天的貨架期。

該產品由我揚州大學以張瑞宏教授為首的團隊經過十年的努力，攻克了許多技術難關，已完成了中試。 2005 年最終實現關鍵工藝上有所突破，特別是側邊封頭工藝及一次性封接法在世界上處于領先地位，可大大簡化生產工藝，大大降低生產成本。目前，根據揚州大學的生產工藝生產的真空平板玻璃可將其成本控制在 100 元/m2 左右。