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采用先進(jìn)的CLOS正交架構(gòu)和RGOS操作系統(tǒng)，高性能，易擴(kuò)展，推薦部署在數(shù)據(jù)中心、城域網(wǎng)、園區(qū)網(wǎng)或數(shù)據(jù)中心與園區(qū)網(wǎng)融合的場(chǎng)景 產(chǎn)品特性： 正交CLOS架構(gòu)，無阻塞轉(zhuǎn)發(fā)，高速傳輸不丟包 全新的全解耦組件化操作系統(tǒng)RGOS，各組件相互獨(dú)立，業(yè)務(wù)持續(xù)不中斷 硬件級(jí)多重保護(hù)，電信級(jí)高可靠，保持設(shè)備持續(xù)運(yùn)行不掉線 創(chuàng)新的風(fēng)扇串聯(lián)和Y型風(fēng)道設(shè)計(jì)，散熱更高效，系統(tǒng)可靠性更高 支持SDN，應(yīng)用于極簡(jiǎn)XS解決方案，實(shí)現(xiàn)園區(qū)網(wǎng)絡(luò)快速部署、自動(dòng)化輕松運(yùn)維

華中科技大學(xué)X射線應(yīng)力測(cè)定儀采購項(xiàng)目競(jìng)爭(zhēng)性磋商

高質(zhì)量鉬系硫族化合物單層材料的CVD生長一直受限于難以控制的化學(xué)動(dòng)力學(xué)條件，其中最為重要的是對(duì)于Mo蒸汽釋放的合理調(diào)控。近日，課題組在傳統(tǒng)的MoO 3

一種網(wǎng)格狀CuxS/Cu2O，x＝1.75～2復(fù)合類金字塔薄膜的制備方法，具體作法是：將方塊面電阻為10-14歐的FTO，依次用HCl溶液、洗衣粉溶液、異丙醇溶劑超聲洗凈，晾干；取含CuSO4和乳酸的混合溶液，以FTO為工作電極，鉑片為對(duì)電極，采用電壓法沉積；沉積后取出FTO，清洗烘干得Cu2O類金字塔薄膜的FTO；再將其放入Na2S溶液中處理，清洗烘干即在FTO上得網(wǎng)格狀CuxS/Cu2O復(fù)合類金字塔薄膜。該方法設(shè)備簡(jiǎn)單，能耗低，適合大規(guī)模生產(chǎn)；制得物對(duì)太陽光吸收波長范圍寬，作為太陽能電池材料具有應(yīng)用前景；可作為模版和反應(yīng)介質(zhì)直接合成其它具有窄禁帶寬度的類金字塔形化合物，作為太陽能電池材料。

產(chǎn)品詳細(xì)介紹 1.      主要參數(shù)： ★掃描方式：激光手持照相式 ★掃描技術(shù)：激光線網(wǎng)格掃描技術(shù) 幀掃描區(qū)域：250mm×250mm 景深：250mm（自動(dòng)） 工作距離：300mm ★掃描速率： 300000次/秒 掃描分辨率：0.100（毫米） ★測(cè)量精度：0.03 mm ★體積精度：0.020 + 0.100（毫米/米） 體積精度（結(jié)合DigiMetric）：0.020 + 0.025（毫米/米） 測(cè)量范圍（物件尺寸）：0.1 ～6米，可擴(kuò)展 傳輸方式： USB3.0 工作溫度：-10 - 40℃ 工作濕度：10 - 90 % 三維光學(xué)掃描系統(tǒng)配置與功能 數(shù)據(jù)采集傳感器：高速、高精密工業(yè)級(jí)相機(jī)2臺(tái) ★內(nèi)置微慣性傳感器，實(shí)時(shí)輸出設(shè)備位姿； ★測(cè)量光源：10束交叉激光線，激光級(jí)別ClassII(人眼安全)，波長大于600納米 計(jì)算機(jī)系統(tǒng)：支持windows 7，32位和64位操作系統(tǒng)，支持內(nèi)存16G以上 拼接方式：系統(tǒng)整合“專業(yè)模式”全自動(dòng)標(biāo)志點(diǎn)拼接模塊 全局誤差控制方式：GREC Pro全局誤差控制 ★掃描方式：FLESA可變點(diǎn)距掃描 ★使用方便：整個(gè)過程全部手持完成，無需三腳架等支撐裝置 所測(cè)量的物體表面可不做任何形式（如噴白）的預(yù)先處理 防抖設(shè)計(jì)：采用先進(jìn)的防抖動(dòng)算法，防止掃描過程中人為的抖動(dòng)對(duì)誤差的影響 自動(dòng)探測(cè)被掃描物體顏色材質(zhì)，從而自動(dòng)調(diào)節(jié)激光亮度及CCD曝光 可一鍵自動(dòng)過濾掃描背景數(shù)據(jù)，自動(dòng)刪除雜點(diǎn)及過濾不良點(diǎn)云數(shù)據(jù) 軟件界面實(shí)時(shí)捕捉靜態(tài)圖像，一鍵截圖功能 ★碳纖維材質(zhì)標(biāo)定板，輕量化，抗壓耐高溫，不易變形，非石英玻璃材質(zhì)。雙面標(biāo)定，白平衡標(biāo)定功能，有效減少掃描噪聲 三維光學(xué)掃描系統(tǒng)軟件功能 ★全中文軟件界面 ★自適應(yīng)形面掃描模塊 自動(dòng)調(diào)節(jié)系統(tǒng)參數(shù)，自適應(yīng)各種材質(zhì)/顏色表面的不同掃描對(duì)象，無需手動(dòng)調(diào)節(jié)； FLESA可變點(diǎn)距掃描，在同一次掃描中，可對(duì)點(diǎn)距進(jìn)行靈活設(shè)置和改變，同時(shí)滿足高速掃描以及精細(xì)掃描的需求 ★自動(dòng)拼接模塊 智能標(biāo)志點(diǎn)識(shí)別技術(shù)：系統(tǒng)自動(dòng)跟蹤識(shí)別標(biāo)志點(diǎn)； 慣性—光學(xué)混合式傳感器定位技術(shù)，實(shí)時(shí)將數(shù)據(jù)自動(dòng)配準(zhǔn)到同一坐標(biāo)系； GREC Pro全局誤差控制模塊，可對(duì)拼接后的誤差進(jìn)行全局控制； ★全局框架掃描模塊 全局框架掃描技術(shù)，對(duì)框架點(diǎn)累積誤差進(jìn)行全局控制； 兼容DigiMetric系統(tǒng)，搭載全局?jǐn)z影測(cè)量技術(shù)可將掃描范圍擴(kuò)展至幾十米； ★后處理模塊 掃描數(shù)據(jù)后，可進(jìn)行點(diǎn)云噪聲處理及修剪 內(nèi)置友好的網(wǎng)格處理控制參數(shù)人機(jī)交互界面，可對(duì)去除釘狀物、精簡(jiǎn)、平滑、特征銳化等網(wǎng)格處理參數(shù)進(jìn)行設(shè)置 自動(dòng)生成STL三角面 自動(dòng)對(duì)三角網(wǎng)格數(shù)據(jù)進(jìn)行補(bǔ)洞、去除釘狀物、精簡(jiǎn)、平滑、特征銳化等處理 數(shù)據(jù)輸入輸出 導(dǎo)出結(jié)果為ASC，STL，OBJ，OKO等格式數(shù)據(jù)輸出接口廣泛,測(cè)量結(jié)果可與CATIA、Geomagic Studio、Imageware等逆向工程軟件自由交換數(shù)據(jù) 配備三維數(shù)據(jù)管理系統(tǒng)  1套 采用三維引擎實(shí)現(xiàn)對(duì)三維模型、圖片和文字的顯示； ★采用Access數(shù)據(jù)庫，可實(shí)現(xiàn)對(duì)對(duì)象的樹狀管理和從圖片上選擇區(qū)域進(jìn)行切換等功能，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)三維數(shù)據(jù)、圖片和文字的有效管理； ★能對(duì)三維數(shù)據(jù)進(jìn)行多層次樹狀結(jié)構(gòu)管理，實(shí)現(xiàn)從大場(chǎng)景到局部細(xì)節(jié)的有效管理； ★支持對(duì)三維模型、圖片和文字的綜合管理，并能相互切換； 支持從圖片上選擇區(qū)域切換，用戶可以隨心所欲的瀏覽對(duì)象的每一個(gè)細(xì)節(jié)； ★截取高清晰的光照?qǐng)D信息； ★實(shí)現(xiàn)對(duì)三維模型的分析如距離等進(jìn)行量測(cè)，得到最準(zhǔn)確的測(cè)繪資料； 數(shù)據(jù)庫基于Windows XP操作系統(tǒng)； 三維模型的支持格式為： STL，OBJ，VRML，IGES，OKO； 圖片支持的格式為：JPG，BMP； 文字支持的格式為：html； ★素材支持：配備一個(gè)3d素材庫，素材庫數(shù)量須大于2萬個(gè)，素材涵蓋人物、卡通、教育、建筑、時(shí)尚、玩具、動(dòng)物、植物、家居、工具、動(dòng)漫游戲等類別，素材擁有25個(gè)以上特色專題，每個(gè)專題包含至少5個(gè)以上同類別優(yōu)質(zhì)素材。素材庫包含網(wǎng)站及APP，APP同步支持安卓及IOS下載，素材庫系統(tǒng)須取得電腦終端與iphone移動(dòng)終端及Android移動(dòng)終端《計(jì)算機(jī)軟件著作權(quán)登記證書》。 2. 提供生產(chǎn)廠商對(duì)本項(xiàng)目的原廠項(xiàng)目授權(quán)委托書及售后服務(wù)承諾書原件。（須加蓋生產(chǎn)廠商單位公章） 3. 投標(biāo)單位配備的3D模型庫需提供《軟件著作權(quán)登記證書》。（復(fù)印件并加蓋軟件供應(yīng)商單位公章） 4. 投標(biāo)人所投3D掃描儀具有中美青年創(chuàng)客大賽指定3D掃描品牌證書 第1條所列產(chǎn)品參數(shù)為招標(biāo)基礎(chǔ)要求，加★部分為必須滿足項(xiàng)，投標(biāo)產(chǎn)品的參數(shù)值應(yīng)符合或高于本條要求。投標(biāo)單位須提供投標(biāo)產(chǎn)品的印刷彩頁，并加蓋生產(chǎn)廠商單位公章，否則視為不能響應(yīng)招標(biāo)參數(shù)。 第2條項(xiàng)目授權(quán)委托書及售后服務(wù)承諾書須提供原件并加蓋生產(chǎn)廠商單位公章，否則視為不能響應(yīng)招標(biāo)文件參數(shù)。 第3條《軟件著作權(quán)登記證書》須提供復(fù)印件并加蓋軟件供應(yīng)商單位公章，否則視為不能響應(yīng)招標(biāo)文件參數(shù)。 第4條要求為招標(biāo)附加要求，投標(biāo)產(chǎn)品如符合要求，可加5分，如不符合，須減5分。

本發(fā)明提供了N 乙酰葡萄糖胺在制備用于誘導(dǎo)非小細(xì)胞肺癌細(xì)胞凋亡的制劑中的用途，本發(fā)明從動(dòng)物水平、細(xì)胞水平和分子水平的實(shí)驗(yàn)明確了N 乙酰葡萄糖胺能夠與腫瘤壞死因子相關(guān)凋亡誘導(dǎo)配體協(xié)同作用，從而增強(qiáng)TRAIL對(duì)非小細(xì)胞肺癌的抑瘤作用，本發(fā)明從分子水平揭示二者協(xié)同作用后死亡受體的活性及蛋白量改變，闡釋了N 乙酰葡萄糖胺促進(jìn)TRAIL誘導(dǎo)非小細(xì)胞肺癌凋亡的作用機(jī)制。本發(fā)明首次將N 乙酰葡萄糖胺與腫瘤壞死因子相關(guān)凋亡誘導(dǎo)配體協(xié)同作用應(yīng)用于抗非小細(xì)胞肺癌的研究中，這對(duì)于提高腫瘤細(xì)胞對(duì)TRAIL的敏感性，擴(kuò)大其應(yīng)用范圍意義重大。

大連理工大學(xué)X射線顯微CT掃描儀采購項(xiàng)目招標(biāo)項(xiàng)目的潛在投標(biāo)人應(yīng)在大連市甘井子區(qū)軟件園路80號(hào)科技園大廈B座601室獲取招標(biāo)文件，并于2022年06月30日09點(diǎn)00分（北京時(shí)間）前遞交投標(biāo)文件。

本發(fā)明公開了一種用于凈化重金屬污水的改性浮石及其制備方法和用途，采取浮石為原料，通過破碎，篩分，球磨加工成不規(guī)則粒狀，加工成Φ＝16-100目所需大小的顆粒現(xiàn)狀，放入烘箱烘干，馬弗爐煅燒，自來水淬火，瀝干，烘箱烘干，小粒狀浮石即為成品。采用改性后浮石通過吸附-離子交換作用，將水體中的重金屬離子Cu2+、Pb2+、Zn2+、Cd2+、Cr2+、Hg2+、As5+除去，達(dá)到凈化重金屬廢水的目的。該原料成本低廉，加工工藝簡(jiǎn)單，使用改性浮石去除單體重金屬及混合重金屬效果好，見效快，無二次污染。

本發(fā)明公開了一種 H.264/AVC 中 4x4 子宏塊的并行幀內(nèi)預(yù)測(cè)方 法，包括以下步驟：統(tǒng)一幀內(nèi)預(yù)測(cè)公式、參考值數(shù)組、參考位置表和 并行幀內(nèi)預(yù)測(cè)的具體執(zhí)行步驟，統(tǒng)一幀內(nèi)預(yù)測(cè)公式是根據(jù) CUDA 和幀 內(nèi)預(yù)測(cè)計(jì)算公式的特性改進(jìn)而成的，通過將 9 種預(yù)測(cè)模式對(duì)應(yīng)的預(yù)測(cè) 公式變換成一個(gè)計(jì)算公式，滿足了 CUDA 多線程單指令多數(shù)據(jù)流的需 求，實(shí)現(xiàn)了幀內(nèi)預(yù)測(cè)子宏塊中細(xì)粒度并行，參考值數(shù)組及參考位置表 是為了配合統(tǒng)一幀內(nèi)預(yù)

（專利號(hào)：ZL 201510680435.X） 簡(jiǎn)介：本發(fā)明公開了一種負(fù)載型Au?Pd/mpg?C3N4納米催化劑催化甲酸脫氫的方法，屬于化學(xué)化工技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明將制備好的負(fù)載型Au?Pd/mpg?C3N4納米催化劑置于反應(yīng)器中，將反應(yīng)器置于油浴中升至一定溫度，接著將甲酸和甲酸鈉混合液加入反應(yīng)器中進(jìn)行反應(yīng)，生成的氫氣采用排水法收集。所述Au?Pd/mpg?C3N4納米催化劑是采用Au、Pd和去離子水按照一定摩爾比配置，將載體mpg?C3N4加入上述溶液中，向混合液中添加還原劑，經(jīng)過濾、干燥后制得。與傳統(tǒng)的負(fù)載型催化劑不同的是：根據(jù)本發(fā)明，調(diào)節(jié)催化劑中金屬金、鈀的含量及mpg?C3N4含量就可以制得用于甲酸脫氫制氫氣的高活性、高選擇性負(fù)載型Au?Pd/mpg?C3N4納米催化劑。