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高性能電磁屏蔽、隱身光學元件的設計、制備與應用
所屬領域:
項目成果/簡介:
常見的光學窗口材料一般是絕緣體，其電磁屏蔽能力往往比較差。為了提高光學窗口的電磁屏蔽性能，本成果通過設計、制備特殊薄膜結構，在保證其高光學透過率的前提下，實現電磁屏蔽性能的巨大提升。該類型窗口元件透過率大于90%@可見及近紅外區，明視覺反射率分別為：8度0.24%，15度0.21%，30度0.27%；方塊電阻低于10ohm/sq，電磁屏蔽能力優于24dB@100MHz-18GHz，經用戶確認，性能指標處于國內領先，達到國際先進水平。
應用范圍:
高性能電磁屏蔽、隱身光學元件領域
項目階段:
已具備小批量生產能力
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