超高分辨率光矢量分析設備采用“微波光子學方法”，首創具有國際領先水平的“超高分辨率光矢量分析技術”，集成了電-光、光-電和光-光3類元器件頻譜響應的測量功能，可應用于光纖通信、光纖傳感、光信號處理和集成光子學等領域。

技術特征

關鍵技術與創新點一：基于120度電橋的高抑制比光單邊帶調制技術和基于光載波抑制與平衡光電探測的非線性誤差對消技術。

關鍵技術與創新點二：光頻梳通道化測量技術和基于光希爾伯特變換的鏡像邊帶抑制技術。

關鍵技術與創新點三：多種測量模式融合與系統軟硬件集成技術。

工作波長：1528-1565 nm

最高波長分辨率：50 kHz（即0.4 fm）

幅度分辨率：0.01 dB

幅度精確度：±0.11 dB

相位分辨率：0.01°

相位精確度：±1.2°

對比國際上最高水平商用光矢量分析儀表LUNA OVA5000，設備的分辨率提升了4000倍，動態范圍提升了31倍（15dB），相位精確度提升了2.5倍（單通道40GHz范圍內），幅度分辨率也提升5倍以上，打破國外技術壁壘，實現進口替代。

應用范圍:

設備已應用于包含海思光電子以及4家上市公司在內的數十家單位47種高端光器件的研發和生產（用戶包括：華為、長飛光纖601869.SH、中航光電002179.SZ、航天電器002025.SZ、光迅科技002281.SZ等），其中31種高端光器件在本項目設備的支撐下實現了量產；在我國高速光電芯片、新一代光通信系統、工業互聯網、智能感知等領域發揮著穩定的作用，有力支撐了我國核心光器件的自主可控和原始創新。